900℃氧化 500h，原材料與浸鍍件具有相似的氧化動(dòng)力學(xué)趨勢(shì)。800℃氧化500h，原材料的氧化速率為浸鍍件的35倍，浸鍍件的氧化

186 常小，從圖5-4(b)中可知浸鍍件在200h后的氧化速率趨于零，說(shuō)明氧化 

合金層趨于穩(wěn)定，已形成致密的氧化物保護(hù)膜，而原材料仍以一定的速率氧業(yè)700℃氧化500h，浸鍍件的氧化增重雖小于原材料，但氧化速率是原材制倍。從圖 5-4(c) 來(lái)看，原材料的氧化曲線較平緩，合金均一化穩(wěn)定時(shí)間較長(zhǎng)。

要更長(zhǎng)的時(shí)間才能形成致密的抗高溫氧化合金屬。

鍍層經(jīng)高溫氧化500h后，鍍層與基體均發(fā)生較充分的擴(kuò)散，擴(kuò)散導(dǎo)致化合層厚度的變化。

900℃氧化500h，由截面金相組織放大150倍的照片可見(jiàn)，鍍層厚度由氣的55μm增長(zhǎng)為150μm，主要由氧化物層與擴(kuò)散層組成。經(jīng)X射線分析表明化物層主要為a-Al2O氧化膜，擴(kuò)散層主要是形成β-NiA1單相層。在Ni-A物中，β-NiAl相具有****的抗氧化性。

800℃氧化500h，從金相截面組織可見(jiàn)，形成完整氧化膜，氧化膜層金開(kāi)始向基體擴(kuò)散，沒(méi)有形成擴(kuò)散層，氧化膜致密。

700℃氧化500h，從金相截面組織可見(jiàn)，富鋁層消失，但形成的氧化層合金層并未完全消失。